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為客戶提供全面的設(shè)備和工藝解決方案

• 薄膜沉積 • 薄膜刻蝕 • 定制設(shè)備

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"產(chǎn)品中心
為客戶提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
AVP IBE System
- 廣泛適用所有材料刻蝕，包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層膜、傾斜光柵等。
- 成熟、可靠、低成本、高產(chǎn)能、7/24連續(xù)運行的薄膜刻蝕系統(tǒng)
- 歐美工業(yè)生產(chǎn)驗證的、多種成熟的薄膜刻蝕工藝
- 杰出的薄膜刻蝕均勻性和重復性
- 廣泛適用所有材料刻蝕，包括RIE難以刻蝕的Au、Pt、Mo等難熔金屬、Fe、Co、Ni等磁性材料、陶瓷、氧化物、多層
AVP HR PVD System
-高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
-高速率反應濺射，如Al2O3的沉積速率 > 1nm/s
-優(yōu)異的薄膜厚度均勻性（1σ<1%），裹覆率（Step Coverage ~50%）
-基片背面氦氣冷卻，基片溫度（<50°C）
-高靶材使用率（>80%）
-高濃度離子輔助的傾角濺射（Directional Sputtering）
-高速率反應濺射，如Al2O3的沉
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"關(guān)于艾微普
為客戶提供全面的設(shè)備和工藝解決方案
專注打造世界先進水平的高端微納器件、半導體、及新能源加工設(shè)備
公司由美國硅谷企業(yè)家團隊與國內(nèi)著名上市企業(yè)天通公司(TDG)合作，在浙江海寧創(chuàng)立。公司聚集了多位海內(nèi)外資深微納加工及半導體設(shè)備、工藝、材料專家，專注打造世界先進水平的高端微納器件、半導體、及新能源加工設(shè)備。

公司的核心技術(shù)和產(chǎn)品包括物理氣相沉積/磁控濺射（PVD）、離子束刻蝕機（IBE）、反應離子刻蝕機（RIE）等系列MEMS、半導體、新能源器件制造專用設(shè)備。公司自創(chuàng)立以來，已經(jīng)獲得幾十項國家專利。
公司總部
中國浙江省嘉興市海寧市海昌街道芯中路6號16幢
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